朱景芝

作品数：4被引量：9H指数：2
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磁控反应溅射制备Ge_xC_(1-x)薄膜的结构
《金属热处理学报》2000年第2期95-99,共5页刘正堂 耿东生 宋建全 朱景芝 郑修麟 
航空科学基金!资助 (93G5 312 0 )
利用射频磁控反应溅射以Ar、CH4 为原料气体 ,在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜。利用X射线衍射 (XRD)、X射线光电子谱 (XPS)对制备的薄膜进行了分析。结果表明 ,GexC1-x薄膜的结构强烈依赖于制备的工艺参数。当沉积温度较低...
关键词：GexC1-x薄膜 磁控反应溅射 薄膜结构 
反应溅射 Ge_XC_(1-X) 薄膜的沉积速率被引量：1
《材料工程》1998年第2期6-8,共3页刘正堂 朱景芝 宋建权 郑修麟 
航空科学基金资助项目
系统地研究了射频磁控反应溅射中工艺参数对ＧｅＸＣ１－Ｘ薄膜沉积速率的影响。结果表明，当气体流量比超过某值后，沉积速率有较大的下降。沉积速率随射频功率的增大而增大。某工作气压下有沉积速率的最大值。薄膜厚度随时间的增长规...
关键词：磁控反应溅射 沉积速率 靶中毒 碳化锗 薄膜 
射频反应溅射Ge_xC_（1－x）薄膜的特性被引量：5
《红外技术》1996年第5期19-22,共4页刘正堂 朱景芝 许念坎 郑修麟 
航空科学基金
射频反应溅射Ｇｅ_ｘＣ_（１－ｘ）薄膜的特性刘正堂，朱景芝，许念坎，郑修麟（西北工业大学材料科学与工程系，西安，７１００７２）［摘要］通过在Ａｒ＋ＣＨ４气体中的射频反应溅射法制备出ＧｅｘＣ（１－ｘ）薄膜。利用俄歇电子能...
关键词：薄膜 射频反应溅射 红外增透 保护膜 红外材料 
红外增透膜和保护膜的设计与材料被引量：4
《激光与红外》1996年第4期275-278,共4页朱景芝 刘正堂 
航空科学基金
综述了红外增透膜和保护膜的设计方法，并介绍了几种新型红外镀膜材料。
关键词：红外增透膜 保护膜 设计 材料 红外光学元件 
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