一种新的膜厚测试技术  

作　　者：孙艳[1] 孙锋[1] 杨玉孝 谭玉山 

机构地区：[1]西安交通大学激光红外研究所,西安710049 [2]空军工程学院航空电子工程系,西安710038

出　　处：《计量技术》2002年第3期6-9,共4页Measurement Technique

摘　　要：在“Y”型光纤一个端面上垂直放置涂有透明薄膜的基片 ,入射光在光纤—薄膜层—空气的界面处两次反射 ,由于两束反射光之间存在光程差 ,所以反射光发生干涉。不需要测量干涉条纹 ,仅通过对反射光谱的分析计算 ,可以测出薄膜的厚度以及折射率的数值。在单晶硅基片上做非晶的PSiO2 膜的甩膜实验中使用该方法测试PSiO2 膜的厚度 ,实验证明 ,该方法测量精度高、速度快 ,对薄膜无破坏作用。用卤素白光和红光的准单色光( 60 0nm～ 860nm)作为光源 ,膜厚范围为 0 5到几十微米 ,测量误差小于 4 0nm。进行了实验验证 。

关 键 词：光纤 干涉 频谱 光程差 膜厚 测试技术 薄膜 

分 类 号：TH744.3[机械工程—光学工程]