50型MEVVA源离子注入机  

TYPE-50 MEVVA ION IMPLANTER

作　　者：吴先映[1] 李强 张胜基[1] 张孝吉[1] 张荟星[1] 

机构地区：[1]北京师范大学低能核物理研究所,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京100875

出　　处：《北京师范大学学报（自然科学版）》2002年第4期496-499,共4页Journal of Beijing Normal University(Natural Science)

基　　金：国家"八六三"计划资助项目

摘　　要：详细介绍了 5 0型强束流、大束斑MEVVA源注入机的结构和各项性能 .5 0型MEVVA源注入机是北京师范大学低能核物理研究所于九五期间承担的“八六三”计划项目“先进离子束注入技术的工业应用”所取得的成果 。Type 50 MEVVA ion implanter, which is the outcome of project '863 715 008 0040', is presented. The implanter is remarkable with its intense beam current and wide beam spot. It is an industry purpose apparatus.

关 键 词：MEVVA源 离子注入机 材料表面改性 真空靶室 电源 低能核物理 控制测量系统 

分 类 号：TL503.3[核科学技术—核技术及应用] TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理]