太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)  

Reactive-environment,hollow cathode sputtering:Basic characteristics and application to Al_2O_3,doped ZnO, and In_2O_3:Mo

作　　者：Delahoy A E Guo S Y Paduraru C 范崇治[1] 

机构地区：[1]清华大学

出　　处：《太阳能》2014年第8期39-41,共3页Solar Energy

摘　　要：透明导电氧化物薄膜，例如SnO2、ITO、ZnO，有很多应用，如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶，它含有ZnO和2％（重量比）Al2O3，无论如何靶的代价是过高的，而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn：Al靶受到关注，虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属／氧化物过渡模式。

关 键 词：ZnO Al2O3 IN2O3 透明导电氧化物薄膜 阴极溅射 MO薄膜 应用 掺杂 

分 类 号：TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]