基片温度对TiB_2薄膜生长形貌及力学性能的影响  

Influence of substrate temperature on the growth and mechanical properties of TiB2 thin films

作　　者：虞晓江[1] 田家万[1] 邵楠[1] 李戈扬[1] 

机构地区：[1]上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海200030

出　　处：《电子显微学报》2002年第5期637-638,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

关 键 词：基片温度 TiB2薄膜 生长形貌 力学性能 硼化钛薄膜 测量分析 

分 类 号：TB43[一般工业技术]