欧盟纳米压印光刻技术实现感应薄膜低成本量产  

机构地区：[1]科技部

出　　处：《军民两用技术与产品》2015年第1期34-34,共1页Dual Use Technologies & Products

摘　　要：欧盟第七研发框架计划提供490万欧元资助，总研发投入690万欧元，由芬兰、英国、德国、荷兰、奥地利和瑞士等6个国家的9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队，利用最先进的纳米压印光刻技术，整合基底纳米功能冲压工艺和卷到卷生产制造工艺，实现了低成本、大批量制造大面积纳米结构传感器阵列（NSA）的工业流程设计和设备样机开发，奠定了NSA商业化推广应用的基础。

关 键 词：纳米压印 光刻技术 低成本 欧盟 薄膜 感应 传感器阵列 框架计划 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]