应用材料公司的创新硬掩模材料技术解决铜互连图形生成的挑战  

出　　处：《电子工业专用设备》2015年第6期68-69,共2页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：全球领先的半导体、平板显示和太阳能光伏行业精密材料工程解决方案供应商应用材料公司,近日推出全新的Applied Endura CirrusT M HTX物理气相沉积（PVD）＊系统,采用突破性硬掩模技术,可支持10 nm及更小的铜互连图形生成。芯片尺寸的不断缩小需要更先进的硬掩模技术,从而保证紧凑、微型互连结构的完整性。

关 键 词：图形生成 掩模 应用材料公司 工程解决方案 芯片尺寸 平板显示 全新技术 物理气相沉积 材料工程 掩膜 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]