磁控溅射BST薄膜的透射电镜分析  

作　　者：周巧玲[1] 舒云峰[2] 

机构地区：[1]安徽省马鞍山工业学校 [2]中钢集团安徽天源科技股份有限公司,安徽马鞍山243000

出　　处：《科技创新导报》2015年第17期125-126,共2页Science and Technology Innovation Herald

摘　　要：基于Ba_xS_(rl-x)TiO_2(BST)在微波调制器件上的应用,采用射频磁控溅射在Si衬底上制备了BST铁电薄膜,利用透射电子显微镜(TEM)对薄膜的内部结构进行了分析,得到BST薄膜的生长方式由最初的随机取向生长转变为最后的(111)面择优取向生长。

关 键 词：BST薄膜 磁控溅射 TEM 

分 类 号：TM27[一般工业技术—材料科学与工程]