离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究  

Research on the UV optical and surface property of HfO_2 film by Ion-assisted deposition

作　　者：唐义[1] 蒋静[1] 蒋玉蓉[1] 吴慧利[1] 

机构地区：[1]北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室,北京100081

出　　处：《光学技术》2015年第6期502-505,共4页Optical Technique

基　　金：国家973计划项目(2013CB329202);工业技术基础项目(J312012B002)

摘　　要：利用离子束辅助沉积方法制备单层二氧化铪薄膜,对薄膜样品的折射率、吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺参数有着密切的关系,沉积速率、烘烤温度、离子束流、氧气流量均对单层二氧化铪薄膜紫外光学特性有着不同程度的影响。实验分析了不同工艺因素对单层二氧化铪薄膜的影响,并且找到了在一定范围内的最佳工艺参数。针对可能对紫外波段造成较大散射吸收损耗的微观表面形貌,利用SEM分析了典型工艺因素对表面形貌的影响。Single layer HfO2 thin films are prepared by Ion Assisted Deposition（IAD）.Refractive index and extinction coefficient of these deposited films are studied.The result shows that its optical properties have close relationship with deposition craft parameters.Deposition rate,baking temperature,ion beam and oxygen flux have different effects on UV optical property of single layer HfO2 films.Based on orthogonal experiments,the impact of different process factor on single layer HfO2 thin films is analyzed,and optimal process parameters are found.And the impact of typical process factors on surface morphology of the film,which will cause UV scattering loss,is analyzed as well.

关 键 词：二氧化铪薄膜 光学常数 离子束辅助沉积 SEM 

分 类 号：O43[机械工程—光学工程] TN2[理学—光学]