沈阳拓荆科技研发化学气相沉积设备CVD  

出　　处：《集成电路应用》2016年第1期44-44,共1页Application of IC

摘　　要：作为国内领先的CVD设备供应商，拓荆由中国科学院所属公司和一批海外归国的技术专家于2010年共同创立。公司主要致力于研发生产创新、先进的化学气相沉积设备（CVD），帮助全球的半导体制造商生产集成电路器件，推动消费类和工业电子产品的发展。拓荆的PECVD设备己在中国两家客户生产线上通过量产验证，并接到了重复订单。

关 键 词：CVD设备 沉积设备 化学气相 科技研发 中国科学院 沈阳 集成电路器件 半导体制造商 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]