CVD设备

作品数：37被引量：34H指数：3
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立式LPCVD设备的设计
《电子工艺技术》2025年第2期45-48,共4页陈庆广 樊坤 赵瓛 黄志海 郑红应 
针对传统的卧式炉特点,从目前8~12英寸90 nm到28 nm制程的工艺需求出发,提出了一种立式LPCVD设备设计方案。设备对标国际主流应用装备,结合主流FAB产线大尺寸晶圆、高温度均匀性、颗粒污染控制、全自动控制的需求,进行了设备的针对性设...
关键词：立式LPCVD 颗粒 金属污染 膜厚 
高稳定性圆柱形MPCVD设备的设计与金刚石单晶生长的研究
《冶金与材料》2024年第4期4-6,共3页许坤 王皓 
河南省高等学校重点科研项目基础专项项目(项目编号:22ZX012);河南省重点研发与推广专项(科技攻关)项目(项目编号:212102210271);河南省高等学校重点科研项目(项目编号:21B140010);河南省高校科技创新团队项目(项目编号:22IRTSTHN004);航空科学基金项目(项目编号:ASFC2019ZF055002)。
圆柱腔MPCVD设备结构简单,具有等离子体能量密度高、无电极污染等优点,但是使用过程中稳定性较差,火球容易变换位置。文章使用有限元仿真方法分析了传统圆柱形谐振腔的微波电场分布,通过改变谐振腔形状和尺寸,优化传统圆柱形谐振腔的微...
关键词：MPCVD 仿真 金刚石 等离子体 
MPCVD设备样品台温控系统的设计
《机床与液压》2024年第5期144-149,共6页张威 任天平 
由于传统MPCVD设备样品台温度控制需要使用手动调节样品台距等离子源的距离,且调节精度差,为此设计一种样品台温控系统,同时设计了样品台温控系统硬件控制器。该控制器以STM32F407单片机为核心,步进电机、丝杠、金属波纹管为执行机构,...
关键词：MPCVD设备 温控系统 改进鲸鱼算法 BP神经网络 
基于TEOS源LPCVD设备的设计开发被引量：2
《电子工艺技术》2024年第1期56-60,共5页彭浩 姬常晓 赵瓛 
在以TEOS源为SiO_(2)薄膜淀积源的低压化学气相沉积(LPCVD)工艺过程中,频繁出现薄膜厚度均匀性差、表面颗粒度高、设备维护周期短的问题。针对这个问题,设计并开发出一种适用于半导体工艺中的立式LPCVD设备。在设备结构上,工艺腔采用双...
关键词：立式LPCVD 工艺腔 旋转舟架 排气管道 
适用于低应力氮化硅薄膜的LPCVD设备被引量：3
《电子工艺技术》2023年第6期52-55,共4页姬常晓 王成宇 赵瓛 彭浩 袁野 易文杰 
针对适用于低应力氮化硅薄膜淀积的低压化学气相沉积(LPCVD)工艺中出现的薄膜应力大、应力均匀性差、工艺颗粒超标的问题,设计开发出一种适用于半导体器件的低应力立式LPCVD设备。在结构上,工艺腔采用双管式结构,内管为直筒式结构,以提...
关键词：立式LPCVD 工艺腔 旋转舟架 低应力氮化硅 
CVD设备水冷循环系统的计算及设计被引量：1
《电子工业专用设备》2023年第6期88-94,共7页石磊 袁祖浩 巴赛 胡志坤 胡凡 刘柱 万胜强 
湖南省科技厅重大专项(2020GK1030)。
CVD设备水冷循环系统能防止材料在室壁上生长,使反应室得到充分及时地冷却,保证设备的安全运行。根据当前一种主流的CVD设备结构,对设备各冷却部件需要的冷却要求进行了分析计算,确定了各冷却支路需要的管径大小,提出了CVD设备水冷循环...
关键词：化学气相沉积 水冷循环系统 传热学 理论计算 结构设计 
MPCVD金刚石薄膜设备冷却水温控系统的设计
《机械设计与制造》2023年第8期190-194,共5页岳云峰 任天平 朱振伟 
CuSnTi钎焊金刚石的界面形成机制及其残余应力研究(20B460005)。
为了解决MPCVD设备运行时冷却水手动调节方式存在的弊端,实现冷却水温的自动调节,设计了一种冷却水温度控制系统。该系统以STM32单片机为控制器的核心,步进电机为执行机构,采用BP神经网络PID控制算法。对系统进行了仿真和试验验证,结果...
关键词：MPCVD设备 冷却水温度 自动控制 STM32控制器 增量式PID BP神经网络 
高速旋转垂直热壁CVD外延生长n型4H-SiC膜的研究被引量：1
《人工晶体学报》2023年第5期918-924,共7页韩跃斌 蒲勇 施建新 闫鸿磊 
江苏省重大科技成果转化项目(BA2022082)。
采用高速旋转垂直热壁化学气相沉积(CVD)设备在偏向〈1010〉晶向4°的n型4H-SiC衬底上进行了同质外延生长,在设定的工艺条件下,外延膜生长速率达到40.44μm/h,厚度不均匀性和掺杂浓度不均匀性分别达到1.37%和2.79%。AFM表征结果显示表...
关键词：碳化硅 外延 化学气相沉积 CVD设备 厚度均匀性 掺杂浓度均匀性 
915 MHz高功率MPCVD设备生长8-inch金刚石外延膜被引量：2
《硬质合金》2023年第2期98-104,共7页杨国永 杨明阳 王博 王跃忠 鲁云祥 宋惠 易剑 西村一仁 江南 
宁波市科技攻关重大专项《高功率芯片封装用大尺寸金刚石散热基底关键制造与加工技术》(20211ZDYF020198);宁波市甬江引才工程青年创新人才项目《红外光学材料技术》(2021A-108-G)。
金刚石外延膜具有良好的热学、光学和化学稳定性,同时能够满足大尺寸的制备需求,是红外窗口和散热应用中理想的材料。受限于目前金刚石应用中尺寸较小等问题,制备大尺寸高质量的金刚石一直是人们追求的目标。本文采用自行研制的915 MHz/...
关键词：金刚石外延膜 大尺寸 MPCVD 红外窗口材料 915 MHz 
LPCVD+磷扩二合一设备的可行性研究
《今日自动化》2023年第4期31-34,共4页侯净雷 张华灿 张黎静 赵爱爽 郑伟 
文章首先介绍了在光伏电池生产过程中,LPCVD和磷扩散设备的结构和工艺原理,阐述了LPCVD和磷扩散工艺在TOPCon电池生产中,制备纳米级隧穿氧化层和磷掺杂多晶硅层的重要核心作用。然后介绍了TOPCon核心电池结构—隧穿氧化层和磷掺杂多晶...
关键词：LPCVD设备 磷扩散设备 掩膜 异形炉体 
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