铁电薄膜材料领域的研究及专利分析  

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作  者:夏瑞临[1] 吴倩[1] 

机构地区:[1]国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京100000

出  处:《法制与经济》2016年第3期145-146,149,共3页

摘  要:铁电薄膜材料由于其具有独特的优越性被公认为是下一代最具潜力的存储器材料之一。文章通过以我国国内的相关专利申请内容作为分析基础,详细介绍了现有技术中铁电薄膜材料的主要化学组成及制备方法,讨论了铁电薄膜材料在我国的发展状况。

关 键 词:铁电薄膜 存储器 专利申请 

分 类 号:D923.42[政治法律—民商法学]

 

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