AIXTRON凭硅基氮化镓系统AIX G5+C获颁商业杂志荣誉奖项  

作　　者：李星悦 张礼怿 赵博 

出　　处：《电子与封装》2016年第5期6-6,共1页Electronics & Packaging

摘　　要：全球半导体行业沉积设备供应商AIXTRON凭借其全自动新产品——金属氧化物化学汽相沉积（MOCVD）系统AIX G5＋C,获商业杂志Compound Semiconductor颁授2016年CS High-Volume Manufacturing Award奖项。该奖项是业界对国际化合物半导体行业内的关键创新领域进行评判,围绕芯片制造工艺流程,强调对业界发展所作出的贡献。AIXTRON方面表示,AIX G5＋C是全球首套完备的MOCVD系统解决方案,可以满足硅基氮化镓LED和功率器件领域的外延类产品需求。该产品融合两项关键性创新,

关 键 词：MOCVD系统 AIX 氮化镓 SEMICONDUCTOR 硅基 杂志 商业 化学汽相沉积 

分 类 号：TN304.054[电子电信—物理电子学]