我国研制成功新型中紫外直接光刻机  

作　　者：Mary 

出　　处：《今日电子》2017年第5期23-23,共1页Electronic Products

摘　　要：近日,一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术,结合光敏玻璃材料,实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工,能够极大简化工艺流程,将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。光刻设备是用于微细结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学等领域得到全面应用。

关 键 词：光刻机 紫外 电子专用设备 微细结构 光敏玻璃 光电技术 直接加工 中国科学院 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]