22纳米集成电路核心工艺技术及应用  

作　　者：叶甜春[1,2,3] 徐秋霞[1,2,3] 朱慧珑[1,2,3] 陈大鹏[1,2,3] 赵超[1,2,3] 闫江[1,2,3] 王文武[1,2,3] 霍宗亮[1,2,3] 李俊峰[1,2,3] 殷华湘[1,2,3] 李东三 张建勇[1,2,3] 王敬[1,2,3] 

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所 [2]北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 [3]清华大学

出　　处：《中国科技成果》2017年第13期1-1,共1页China Science and Technology Achievements

摘　　要：集成电路（IC）技术是现代信息社会的基石，也是高新技术发展的集中体现，在国家信息安全中发挥着重要的战略性作用。当前，器件特征尺寸已微缩到22纳米及以下，由于短沟道效应和沟道散射效应，在关键技术上面临严重挑战。

关 键 词：高新技术发展 纳米集成电路 短沟道效应 应用 工艺 国家信息安全 信息社会 特征尺寸 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学]