磁控溅射CrN／Si3N4纳米多层膜衬底温度与力学性能的关系  

作　　者：白晓明[1] 

机构地区：[1]空军航空大学飞行基础基地,吉林长春130022

出　　处：《纳米科技》2017年第1期23-28,共6页

基　　金：This work was supported by the National Natural Science Foundation of China （Grant No. 10974257）.

摘　　要：利用磁控溅射方法制备了CrN，Si3N4多晶纳米多层膜，研究了衬底温度对微观结构、界面及力学性能的影响，通过XRR、XRDTA及纳米压痕仪表征了膜的结构和力学性能。结果表明硬度增强机理源于CrN与Si3N4层的模量差异致硬。弹性模量与晶粒指向和变形成分有关，清晰尖锐的界面有助于改善crN，si3N4纳米多层膜的力孛性能。多层膜硬度和模量的变化与界面晶粒尺度和晶粒畸变导致的模量变化有关，与室温样品对比，屈服应力和断裂韧性可以通过增加衬底温度得以改善。

关 键 词：磁控溅射 CrN/Si3N4 多层膜 衬底温度 硬度 模量 

分 类 号：TS101[轻工技术与工程—纺织工程]