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作 者:李健[1] 袁国栋 郭艳玲[1] 陈晖[1] 李三平[1] 李兴东 孙宇[1]
机构地区:[1]东北林业大学机电工程学院,黑龙江哈尔滨150040
出 处:《电镀与涂饰》2018年第1期13-17,共5页Electroplating & Finishing
基 金:中央高校基本科研业务费专项资金(2572015BB05);国家自然科学基金(51075067);高等学校博士学科点专项科研基金资助课题(博导类)(20130062110006);中国博士后基金项目(2015M571382)
摘 要:对选择性激光烧结(SLS)木塑制件依次进行填孔(渗蜡或渗树脂)、打磨和银氨溶液活化后再化学镀铜。化学镀铜的工艺条件为:五水合硫酸铜15 g/L,乙二胺四乙酸二钠20 g/L,酒石酸钾钠15 g/L,亚铁氰化钾0.01 g/L,37%的甲醛15 m L/L,氢氧化钠适量,pH 11.5,温度50°C,装载量3 dm2/L,时间30 min。研究了不同填孔前处理工艺及活化时间对化学镀铜层厚度的影响。获得了均匀、致密,厚度为5.46μm,结合力为0级,表面电阻率为0.054?的铜镀层。Electroless copper plating was conducted on wood–plastic composite parts produced by selective laser sintering (SLS) after pore filling (wax or resin infiltration), polishing, and activation with silver ammonia solution. The bath composition and process conditions for electroless copper plating are as follows: copper sulfate pentahydrate 15 g/L, disodium ethylenediaminetetraacetate 20 g/L, potassium sodium tartrate 15 g/L, potassium ferrocyanide 0.01 g/L, 37wt.% formaldehyde 15 mL/L, sodium hydroxide as required, pH 11.5, temperature 50 °C, loading capacity 3 dm2/L, and time 30 min. The effects of different pore filling pretreatment processes and activation time on the thickness of electroless copper coating were studied. Uniform and compact copper coatings with a thickness of 5.46 μm, 0-grade adhesion strength, and a surface resistivity of 0.054 ? were obtained.
关 键 词:木塑复合物 化学镀铜 填孔 渗树脂 活化 厚度 结合力 导电性
分 类 号:TQ153.1[化学工程—电化学工业] TB332[一般工业技术—材料科学与工程]
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