第十九讲 真空溅射镀膜  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2018年第2期71-73,共3页Vacuum

摘　　要：（接2018年第1期第72页）b.带有中空阴极的平面磁控溅射系统图104给出了一个在传统的平面磁控溅射系统中附加了中空阴极电子枪的溅射装置,这是一个三极装置,其中阴极为磁性阴极,中空阴极电子源作为一个二极阴极。电子源靠近磁阴极,以使它位于阴极的边缘,但仍基本处于磁场中。中空阴极在磁场中的位置是至关重要的。从中空阴极中发射出来的电子产生额外的气体离化,

关 键 词：阴极溅射 溅射装置 平面磁控溅射 离子束溅射 铁磁性 永磁体 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]