高度择优取向(111)PbTiO_3薄膜的制备及光学特性  

Study on Manufacturing Highly Oriented (111)PbTiO_3 Thin Film and its Optical Properties

作　　者：赵强[1] 褚君浩[1] 范正修[2] 

机构地区：[1]中国科学院上海技术物理所红外物理国家重点实验室,上海200083 [2]中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜技术中心,上海200083

出　　处：《压电与声光》2002年第5期382-384,共3页Piezoelectrics & Acoustooptics

摘　　要：单一取向铁电薄膜是大家长期以来研究的目标之一 ,文中采用组合靶射频溅射在白宝石 (α- Al2 O3)衬底上制备出具有较好的 (111)择优取向的 Pb Ti O3薄膜。从薄膜的光学透射谱计算所得的折射率和波长的关系能够较好地符合单振子模型 ,由此得出了薄膜在 4 0 0～ 2 4 0 0 nm区域的折射率变化 ,在长波极限时薄膜的折射率为2 .5Highly oriented (111)PbTiO 3 thin film with pervoskite type microstructure was synthesized directly on the α Al 2O 3 substrate using a rf magnetron sputtering system with a composite target.The relation between refractive index and wavelength,calculated from the transmittance spectrum of the film,fits the individual dipole oscillator model very well.Thus,the dispersion property from 400 nm to 2 400 nm could be calculated,and the minimum refractive index of the film is 2.51.

关 键 词：PbTiO3薄膜 择优取向 铁电薄膜 光学特性 

分 类 号：TM221[一般工业技术—材料科学与工程]