赵强

作品数：22被引量：57H指数：3
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发文主题：光学薄膜激光损伤铁电薄膜激光损伤阈值激光预处理更多>>
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LaNiO_3薄膜热稳定性的研究
《压电与声光》2004年第3期221-224,共4页赵强 黄志明 胡志高 张晓东 褚君浩 
LaNiO3导电金属氧化物薄膜在现代应用科学研究中作为电极和过渡阻挡层倍受青睐,它具有很好的导电特性和稳定性。该文采用射频溅射法制备了具有(100)择优取向的赝立方结构LaNiO3-x薄膜,并进行了原位热处理。实验结果表明,在265°C的处理...
关键词：LANIO3 氧损失 薄膜 
LaNiO_3溅射薄膜的光学和电学特性的研究
《功能材料与器件学报》2003年第1期71-74,共4页赵强 赖珍荃 黄志明 陈静 褚君浩 
采用LaNiO3陶瓷靶和射频磁控溅射技术在350℃的K9玻璃衬底上制备出了具有较好(100)择优取向的LaNiO3薄膜。通过对不同厚度薄膜的光学、电学以及薄膜结构等物理特性的测试分析,发现薄膜厚度小于100nm时为非晶结构,厚度大于150nm后出现了...
关键词：LaNiO3薄膜 射频溅射 光学特性 表面电阻 
高度择优取向(111)PbTiO_3薄膜的制备及光学特性
《压电与声光》2002年第5期382-384,共3页赵强 褚君浩 范正修 
单一取向铁电薄膜是大家长期以来研究的目标之一 ,文中采用组合靶射频溅射在白宝石 (α- Al2 O3)衬底上制备出具有较好的 (111)择优取向的 Pb Ti O3薄膜。从薄膜的光学透射谱计算所得的折射率和波长的关系能够较好地符合单振子模型 ,由...
关键词：PbTiO3薄膜 择优取向 铁电薄膜 光学特性 
SO_2薄膜气敏传感器光学特性的分析被引量：1
《光学学报》2001年第8期957-960,共4页汤兆胜 赵强 范正修 邵建达 
采用光度法以及椭圆偏振法测量技术对掺有贵金属或过渡金属元素的SnO2 薄膜以及在不同PO2 PAr比条件下制备的VOx 系列的薄膜进行了系统的光学气敏特性测试。比较了各种薄膜对SO2 气体的光学气敏特性 ,发现在一定条件下制备的SnO2 Pd、...
关键词：气敏传感器 薄膜 二氧化硫 光学特性 
软X射线多层膜界面粗糙度的计算被引量：1
《中国激光》2001年第3期249-252,共4页冯仕猛 邵建达 赵强 汤兆胜 范正修 
提出一个在小角范围内计算多层膜界面粗糙度的理论计算公式 ,通过不同样品的小角度衍射曲线进行计算 ,结果表明由该公式根据不同周期、不同级次衍射峰计算的粗糙度相差比较小 ,而在相同条件下用已报道公式给出结果相差比较大。该理论公...
关键词：多层膜 衍射强度 粗糙度 软X射线 
对蓝宝石衬底上射频溅射的PbTiO_3薄膜的光学特性研究
《光学学报》2001年第3期309-312,共4页赵强 范正修 冯士猛 汤兆胜 
使用射频溅射和组合靶在蓝宝石 (α Al2 O3)基底上制备出了结构较好的PbTiO3 薄膜 ,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。得出了该薄膜在 40 0nm～2 40 0nm区域内的折射率、...
关键词：弱吸收 光学特性 铁电薄膜 射频溅射 蓝宝石衬底 透射光谱 钛酸铅 
小周期多层膜的小角X射线衍射强度研究被引量：2
《中国激光》2000年第10期927-930,共4页冯仕猛 赵强 汤兆胜 易葵 范正修 
水窗波段 X射线反射元件的特征是周期比较小 ,吸收层和间隔层很难形成连续的膜面 .提出了这种膜系内密度变化的简单物理模型 ,通过理论衍射强度计算和小角 X衍射实验证明这种模型是合理的 .同时理论上证明这种模型仍然有较强的小角 X射...
关键词：X光衍射 电子密度 模型 
组分和应力不均匀分布对薄膜铁电性的影响被引量：4
《压电与声光》2000年第4期249-252,共4页赵强 汤兆胜 冯仕猛 范正修 
采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在（１１１）Ｓｉ基板上制备出了成膜较好的 ＰｂＴｉＯ３薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层，薄膜中的Ｐｂ、Ｔｉ组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长，并...
关键词：PbTiO3薄膜 应力 组分 铁电 
用KrF准分子脉冲激光在低基板温度下制备AlN薄膜的研究被引量：2
《功能材料》2000年第B05期101-102,共2页赵强 范正修 WANGMingli Kyung-KuYOON Jae-GuKIM Seong-KukLEE Kyung-HyunWHANG 
用KrF准分子脉冲激光在 2 0 0℃的Si(111)基板上通过改变制备条件 ,采用沉积后直接保温处理的方式制备出了具有不同择优取向的AlN薄膜 ,并得出了较高的处理温度和过长的时间不利于AlN相的形成的结论。
关键词：准分子脉冲激光 激光沉积 ALN薄膜 
在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制被引量：1
《功能材料》2000年第4期412-415,共4页赵强 汤兆胜 冯士猛 范正修 
利用射频磁控溅射系统，采用 Ｔｉ、Ｐｂ组合靶，以 Ｏ２为反应气体，在（ １１１） Ｓｉ基板上直接沉积 ＰｂＴｉＯ３薄膜，通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构...
关键词：PBTIO3 铁电薄膜 Pb损失 冷却速率 
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