多轮廓型腔结构件磁控溅射类金刚石碳膜附着机理研究  

作　　者：王德山[1] 胡兵兵[1] 徐汇音[1] 李奇亮[1] 李卫国[1] 

机构地区：[1]苏州大学机电工程学院,江苏苏州215131

出　　处：《精密制造与自动化》2017年第4期13-15,19,共4页Precise Manufacturing & Automation

基　　金：江苏省基础研究计划(自然科学基金)面上项目编号:BK20151220

摘　　要：多轮廓型腔结构件具有复杂的内腔,普通镀膜方法对工件内腔镀膜过程中存在膜基结合力差、靶材利用率低、薄膜厚度不均匀致密、内腔死角无法镀膜等诸多问题。针对这些问题,研究采用多靶头旋转式柱状磁控溅射靶,在镀膜机的不同位置安装多靶多材,使靶能够自由旋转来实现复杂内腔壁定向镀膜和膜层均匀性的需要;同时采用梯度复合膜结构来改善单一膜层所存在的膜基结合力差、易于从基体上剥离等问题,通过选择合适的基片温度等磁控溅射工艺参数来提高膜与基片界面之间的附着强度,从而实现在多轮廓型腔结构件的复杂内腔壁镀厚度均匀、致密连续的功能性DLC复合薄膜。

关 键 词：多轮廓型腔 磁控溅射 薄膜均匀性 DLC薄膜 附着机理 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]