显影工艺及显影喷嘴的应用  

作　　者：郭聪[1] 张怀东[1] 

机构地区：[1]沈阳芯源微电子设备有限公司,辽宁沈阳110168

出　　处：《中国高新科技》2018年第20期21-23,共3页

摘　　要：集成电路(IntegratedCircuit,IC)的发明与应用是人类科技发展的重要进程之一。随着半导体科技的进步、工艺的提高,对半导体设备的要求也随之提高。作为IC应用大国,我国正以前所未有的力度发展IC产业,为有自己的"中国芯"而大力发展国产半导体设备替代国外设备,而关键工艺中的关键技术更是需要通过沉淀积累来厚积薄发。文章对显影工艺及显影喷嘴的应用进行介绍。

关 键 词：光刻工艺 显影工艺 显影喷嘴 喷洒方式 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]