光学表面微缺陷的高对比度暗场成像检测方法  

作　　者：张璇 宋德林 张涛[1] 刘乾[3] 耿鹏武 

机构地区：[1]四川大学制造科学与工程学院,四川成都610065 [2]成都国科海博信息技术股份有限公司,四川成都610213 [3]中国工程物理研究院机械制造技术研究所,四川绵阳621000 [4]空军驻雅安地区军事代表室,四川雅安625000

出　　处：《机电技术》2019年第1期86-87,108,共3页Mechanical & Electrical Technology

摘　　要：提出了一种新型的暗场显微成像方法(环状孔径显微术,Circular-Aperture Microscopy,CAM)用于光学加工表面的缺陷检测。该方法的关键在于,在CAM物镜中心放置一个遮挡片用于消除照明直射光的影响,而缺陷的散射光能够通过物镜的环状透射区域形成高对比度的图像。对划痕和麻点标准比对板、分辨率测试板、微粒悬浊液等样品的成像结果表明,CAM具有原理简单、对比度高、分辨率高、精度高的优势,能够为光学表面加工中的缺陷检测提供一种有效的方法。

关 键 词：光学元件加工 缺陷检测 暗场显微成像 

分 类 号：TN247[电子电信—物理电子学]