纳米光刻技术的现状和未来  

THE PRESENT AND FUTURE OF NANOLITHOGRAPHY

作　　者：陈献忠[1] 姚汉民[1] 陈旭南[1] 李展[1] 罗先刚[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209

出　　处：《物理》2002年第11期691-695,共5页Physics

基　　金：中国科学院知识创新工程项目 (批准号 :A2K0 0 0 9) ;微细加工光学技术国家重点实验室开放基金课题 (批准号 :KFS4)资助项目

摘　　要：纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。Nanotechnology will play a key role in information science in the 21st century. The fabrication of nanostructures, an important part of nanotechnology, is based upon nanolithography which will be widely employed in the future. We shall first briefly review optical lithography, then describe the development and key issues of several new methods of nanolithography. Prospective applications of nanolithography are discussed at the end.

关 键 词：纳米技术 纳米光刻 纳米结构制作 应用前景 纳米材料 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]