飞秒激光引领超衍射纳米光刻技术新突破  

作　　者：郑美玲[1] 董贤子[1] 赵圆圆 段宣明 

机构地区：[1]中国科学院理化技术研究所 [2]暨南大学光子技术研究院

出　　处：《前沿科学》2019年第4期76-81,共6页Frontier Science

摘　　要：1957年集成电路的发明开启了信息革命的序幕,几十年后的今天,半导体芯片已成为大众消费电子产品中不可或缺的核心部件。在芯片制造工艺中,光刻技术占据十分重要的位置,其将芯片设计图形转移到半导体晶圆上,进一步通过刻蚀等半导体工艺实现芯片制造。

关 键 词：消费电子产品 半导体芯片 半导体工艺 芯片制造 图形转移 光刻技术 集成电路 飞秒激光 

分 类 号：F42[经济管理—产业经济]