超大数值孔径浸没式物镜的研发设计  

作　　者：刘雅丽 

机构地区：[1]卡尔蔡司(上海)管理有限公司,上海200131

出　　处：《中国新技术新产品》2020年第10期80-82,共3页New Technology & New Products of China

摘　　要：该文提出一种超大数值孔径光刻投影物镜。该光刻投影物镜作为光刻机曝光系统的核心模块,将掩模版上的图案以4倍缩小倍率成像于硅片面,该物镜以193 nm的准分子激光器为曝光光源,视场范围为26mm×5.5mm,光学结构不同于传统的全透射系统,引入反射镜及镜片反射面,采用折反射式光学系统结构,有利于平衡像差。浸没情况下最大数值孔径可达到1.35,可应用于前道制造45 nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。

关 键 词：光刻 投影物镜 浸没 超大数值孔径 

分 类 号：TH744[机械工程—光学工程]