有机层上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题研究  

作　　者：杨国波 姜龙 鲁栋良 宋亮 蒋冬华 赵吾阳 

机构地区：[1]成都京东方光电科技有限公司

出　　处：《电子世界》2020年第11期33-35,共3页Electronics World

摘　　要：随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,走线越来越窄,目前LTPS显示技术中常规的设计是使用无机膜作为Ti/Al/Ti的衬底,而柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面对的挑战越来越大。本文将着重对感光有机物(聚酰亚胺等)基底上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题进行分析研究。实验结果表明:单独增加CF4/O2防腐蚀后处理的时间会导致新的问题,会出现后面平坦层脱落的现象。通过光阻线宽的增加和光阻厚度的减薄,可改善Al腐蚀和平坦层脱落的问题。

关 键 词：干法刻蚀 光阻 有机膜 线宽 聚酰亚胺 LTPS CF4 无机膜 

分 类 号：TN3[电子电信—物理电子学]