磁共振对比剂灌注成像在鉴别胶质瘤复发和放射性脑损伤中的应用效果研究  

作　　者：张媛媛[1] 陈选英[1] 薛晓会[1] 

机构地区：[1]郑州大学第一附属医院磁共振科,450000

出　　处：《实用医学影像杂志》2021年第2期174-175,共2页Journal of Practical Medical Imaging

摘　　要：胶质瘤是起源于神经上皮中常见的中枢神经系统肿瘤,是颅内原发性肿瘤疾病。肿瘤细胞呈浸润性生长,恶性程度较高,手术是治疗胶质瘤的首选方式,但患者接受胶质瘤手术后病灶极易复发。目前,临床在治疗中为了确保颅脑功能正常情况下在最大的安全范围内将肿块切除,同时术后需辅助放、化疗治疗,以最大限度地将肿瘤细胞杀灭,有效遏制疾病进展,从而延长生存时间[1]。但在放化疗治疗期间易对患者大脑组织造成损伤,导致血脑屏障破坏后产生放射性脑坏死及射线所导致的脑白质脱髓鞘[2]。对于术后放疗治疗的胶质瘤患者,若脑内出现强化病灶,则需对新发强化灶进行鉴别,观察是否为肿瘤复发或放射性的脑坏死。磁共振对比剂灌注成像技术可清晰反映脑部组织微血管分布及血流灌注情况,通过测定脑血流动力学各参数情况评估胶质瘤是否复发或脑坏死[3,4]。基于此,本研究采用磁共振对比剂灌注成像技术鉴别胶质瘤复发及放射性损伤,旨在探究其应用效果。现报告如下。

关 键 词：中枢神经系统肿瘤 脑血流动力学 浸润性生长 血脑屏障破坏 灌注成像 术后放疗 神经上皮 肿瘤复发 

分 类 号：R739.41[医药卫生—肿瘤]