掩膜版雾状缺陷的原因分析和解决方案  

作　　者：张超义 

机构地区：[1]合肥丰创光罩有限公司,安徽230088

出　　处：《数码设计》2021年第12期153-153,共1页Peak Data Science

摘　　要：掩膜版是半导体生产的重要关键材料之一,掩膜版在自身生产去除光刻胶和清洗工艺时或使用时,会产生雾状缺陷,这些雾状缺陷在曝光时会在半导体产品上形成不良,导致产品报废,雾状缺陷已成为影响半导体的一个重要问题。雾状缺陷主要从两个方面进行改善,一是改善掩膜版环境,二是改善掩膜版去除光刻胶和清洗工艺,本文从雾状缺陷产生原理出发,分析改善雾状缺陷的方法。

关 键 词：掩膜版 雾状缺陷 环境 光刻 清洗 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]