微波等离子体化学气相沉积方法制备纳米金刚石薄膜  

Nanocrystalline diamond film growth by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition(MPCVD)

作　　者：林晨 李义锋 张锦文[1] LIN Chen;LI Yifeng;ZHANG Jinwen(National Key Laboratory of Nano/Micro Fabrication Technology, Institute of Microelectronics,Peking University, Beijing 100871, China;Hebei Insititute of Laser, Shijiazhuang 050081, China)

机构地区：[1]北京大学微电子学研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,北京100871 [2]河北省激光研究所,石家庄050081

出　　处：《功能材料》2021年第7期7001-7005,7011,共6页Journal of Functional Materials

基　　金：国家重点基础研究发展计划资助项目(2015CB352100);河北省自然科学基金资助项目(E2019302005)。

摘　　要：为了制备出大面积均匀连续的纳米金刚石薄膜,并探索温度、气氛等条件对最终生长出的纳米金刚石薄膜样品的影响,使用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,改变CH_(4)、H_(2)、Ar气体比例以及衬底温度,在不同生长条件下制备了5组金刚石薄膜样品。5组样品分别使用ESEM和拉曼光谱进行成膜质量、形貌、结构以及组分的表征,分析了不同薄膜的成因和工艺参数的影响,并提出了进一步优化的方向。In this paper,five groups of diamond films are deposited under different substrate temperature and ratio of CH_(4),H_(2) and Ar by MPCVD in order to acquire large area of uniform and continuous nanocrystalline diamond film and explore the effect of temperature and gaseous environment on characteristics of deposited diamond film.ESEM and Raman spectroscopy are used to characterize the quality,morphology,structure and composition of the films.Formation mechanism and influence of technological parameters are analyzed,and further optimizations are proposed.

关 键 词：纳米金刚石薄膜 微波等离子体化学气相沉积 表面预处理 

分 类 号：TB34[一般工业技术—材料科学与工程]