电感耦合等离子体串联质谱法测定半导体级磷酸中15种痕量杂质元素  

Determination of 15 Trace Impurity Elements in Semiconductor Grade Phosphoric Acid by Inductively Coupled Plasma Tandem Mass Spectrometry

作　　者：王金成 王沿方 周浩 李晓丽 贾逸豪 WANG Jincheng;WANG Yanfang;ZHOU Hao;LI Xiaoli;JIA Yihao

机构地区：[1]无锡华润上华科技有限公司,无锡214000

出　　处：《理化检验（化学分册）》2022年第7期787-790,共4页Physical Testing and Chemical Analysis(Part B:Chemical Analysis)

摘　　要：半导体级磷酸是电子行业使用的一种超高纯化学试剂,广泛应用于超大规模集成电路、薄膜液晶显示器等微电子工业,主要用于硅晶片中氮化硅膜、镀金属膜和铝硅合金膜的湿法清洗和蚀刻[1-2]。在硅晶片的蚀刻过程中,磷酸中痕量杂质元素对电子元器件的成品率、电性能及可靠性有很大影响。不同的杂质污染会导致半导体器件的缺陷,如碱金属与碱土金属(钠、钾、钙、镁等)污染可导致器件的击穿电压降低;过渡金属与重金属(铁、铬、镍、铜、金、锰、铅等).

关 键 词：痕量杂质元素 金属膜 过渡金属 微电子工业 硅晶片 液晶显示器 超大规模集成电路 氮化硅膜 

分 类 号：O657.63[理学—分析化学]