化学机械抛光专利技术分析  

作　　者：朱松松 陈军委 

机构地区：[1]国家知识产权局专利局专利审查协作天津中心 [2]不详

出　　处：《中国科技信息》2023年第14期26-28,共3页China Science and Technology Information

摘　　要：作为抛光速率和抛光效果俱佳的抛光技术,化学机械抛光得到了广泛的发展与研究,本文梳理化学机械抛光技术的专利申请趋势、创新主体、重点专利等方面,对化学机械抛光进行专利分析,为该领域技术人员了解专利申请情况提供参考。

关 键 词：化学机械抛光 专利分析 专利申请 抛光技术 抛光效果 抛光速率 创新主体 技术人员 

分 类 号：TG175[金属学及工艺—金属表面处理] G255.53[金属学及工艺—金属学]