第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术  

作　　者：张以忱[1] 

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2023年第5期102-104,共3页Vacuum

摘　　要：值得指出的是,平行圆板形电容耦合的RF-PCVD装置在沉积过程中上极板上的沉积物较容易脱离而沾污沉积膜层,影响膜层质量。有时,膜厚均匀性也不够理想。2.5.3电感耦合RF-PECVD装置电感耦合装置,一般是把高频线圈置于真空沉积反应室外,利用它产生的交变磁场在反应室内感应交变的电流.

关 键 词：电感耦合 膜厚均匀性 真空沉积 电容耦合 交变磁场 沉积膜 膜层质量 沉积过程 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]