蓝宝石衬底湿法清洗工艺研究  

作　　者：吴国安 胡中伟 王振 徐翊翔 李瑞评 谢斌晖 

机构地区：[1]华侨大学制造工程研究院,福建厦门361021 [2]福建晶安光电有限公司,福建泉州362411

出　　处：《清洗世界》2024年第3期49-52,共4页Cleaning World

基　　金：国家自然科学基金(No.52175404)。

摘　　要：蓝宝石衬底作为LED芯片衬底,不仅要求具有较高的面型精度和表面质量,而且对衬底表面清洁度也有严格要求。实验以抛光后的蓝宝石衬底为对象,首先分析了抛光后的蓝宝石衬底表面污染物主要元素。随后开展抛光后的蓝宝石衬底的单因素湿法清洗实验,研究了清洗剂浓度、清洗温度和清洗时间对污染物去除率的影响。最后通过开展正交实验,获得最佳清洗工艺参数。优化后的清洗工艺可有效提升蓝宝石衬底的表面清洁度和清洗效率。

关 键 词：蓝宝石衬底 湿法清洗 清洗剂浓度 正交实验 

分 类 号：TN315.3[电子电信—物理电子学]