神奇的旋涂  

作　　者：刘显和 任智伟 张振鹏 伍强 

机构地区：[1]不详

出　　处：《科学画报》2023年第11期43-43,共1页Science Pictorial

摘　　要：集成电路产业链的独立自主可控发展是国家战略性需求,是《中国制造2025》的重要目标之一。在集成电路制造中,光刻占用超过1/3的成本。通过光刻机对旋涂有光刻胶的硅片进行曝光,再经过显影、刻蚀等步骤,集成电路图形就可以转移到硅片上。那么,光刻胶怎样才能又好又快地涂到硅片上呢?

关 键 词：集成电路制造 光刻胶 光刻机 旋涂 集成电路产业链 国家战略性 硅片 

分 类 号：TN3[电子电信—物理电子学]