“激光光刻技术”专题前言  

作　　者：陈岐岱[1,2,3] 匡翠方 曹耀宇[6,7,8,9] 陈世祈 Chen Qidai;Kuang Cuifang;Cao Yaoyu;Chen Shiqi

机构地区：[1]吉林大学 [2]集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区 [3]《中国激光》 [4]浙江大学 [5]极端光学技术与仪器全国重点实验室 [6]暨南大学物理与光电工程学院 [7]中国光学工程学会微纳光电子集成技术专业委员会 [8]中国感光学会光学精密成型专业委员会 [9]中国感光学会射固化专业委员会 [10]香港中文大学机械与自动化工程学系,中国香港 [11]美国光学协会(OSA) [12]美国机械工程师学会(ASME) [13]国际光学工程学会(SPIE) [14]美国精密工程学会(ASPE)

出　　处：《中国激光》2024年第12期1-2,F0002,共3页Chinese Journal of Lasers

摘　　要：集成电路产业是现代信息社会的基石,其飞速发展与其制造工艺——光刻技术的进步密不可分。随着人工智能、光量子芯片等信息技术的发展,激光光刻凭借非接触式加工方式、高分辨率、低成本等优势,已成为制备定制化、功能化、集成化精密元器件的关键技术。

关 键 词：人工智能 信息技术 激光光刻 集成电路产业 光刻技术 定制化 精密元器件 光量子 

分 类 号：TN24[电子电信—物理电子学]