检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:John Boyd
机构地区:[1]不详
出 处:《科技纵览》2024年第7期30-35,4,共7页IEEE Spectrum
摘 要:英特尔、三星、台积电以及日本即将落成的先进晶圆代工厂Rapidus都计划在每平方毫米的硅片上放置更多晶体管,它们有一个共同点,那就是支撑其工作的极紫外(EUV)光刻技术极其复杂、非常昂贵且运营成本相当高昂。主要原因是,生产这种系统的13.5纳米光源的过程非常精准且花费颇巨,需要用世界上最强大的商业激光器轰击飞行的熔融锡滴。
关 键 词:光刻技术 摩尔定律 晶圆代工厂 粒子加速器 平方毫米 运营成本 英特尔 晶体管
分 类 号:TN3[电子电信—物理电子学]
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