华中科技大学实现半导体专用光刻胶重大突破  

出　　处：《浙江化工》2024年第10期18-18,共1页Zhejiang Chemical Industry

摘　　要：华中科技大学武汉光电国家研究中心团队在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。团队研发的T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,实现原材料全部国产化,配方全自主设计,有望开创国内半导体光刻制造新局面。

关 键 词：半导体工艺 半导体光刻 光刻胶 华中科技大学 自主设计 系列产品 武汉光电 重大突破 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]