用亚稳态氩原子束制作纳米结构  

Using metastable argon atomic beam to fabricate nanostructures

作　　者：陈献忠[1] 高洪涛[1] 姚汉民[1] 陈旭南[1] 李展[1] 石建平[1] 陈元培[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川成都610209

出　　处：《光学精密工程》2003年第1期6-10,共5页Optics and Precision Engineering

基　　金：中国科学院知识创新工程项目 (A2K0 0 0 9);微细加工光学技术国家重点实验室开放基金课题资助(KFS4)

摘　　要：纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 ,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法。对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角 ,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上 ,破坏吸附在基底表面的SAM膜 (self_assembledmonolayers) ,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果。Fabrication of nanostructures is an important part of nanotechnology,and atom li thography technology is a new nanostructure fabrication method. A me tastable a rgon atomic beam generated by high-voltage discharge is collimated to minimize t he divergence angle of atomic beam.Metastable atoms are quenched when well-c ollimated beam travels through the light standing wave perpendicular to the prop agation direction of the atomic beam,and then deposited onto the substrate. SAM abso rbed on substrate surface is damaged by metastable atoms,and the nanometer-scale structure can be fabricated with etching technologies. The basic principle,expe rimental schemes,correlative theory of this technique and simulation results are given.

关 键 词：亚稳态原子 纳米结构制作 光驻波淬火 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]