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出 处:《辽宁大学学报(自然科学版)》2003年第1期36-39,共4页Journal of Liaoning University:Natural Sciences Edition
摘 要:介绍了功率VDMOSFET导通电阻的模型 ,重点讨论了栅SiO2 厚度Tox对特征导通电阻RonA的影响 ,经过大量的理论计算 ,给出了击穿电压为 2 0V时VDMOSFET的Tox与RonA的关系曲线 .The module of power VDMOSFET is introduced. The effects of thickness T ox of gate (SiO 2) on special on state resistance are discussed in detail. After large theoretical calculations, the curve of relationship of Tox and R on A is obtained when BV ds =20 V. The relationship between optimal cell dimensions and T ox is also first pvesented.
关 键 词:Tox 特征导通电阻 RonA 功率VDMOSFET 单胞电阻 功率容量 栅极SiO2厚度
分 类 号:TN386[电子电信—物理电子学]
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