火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料  

作　　者：郑伟[1] 吴远大[1] 邢华[1] 张乐天[1] 李爱武[1] 刘国范[1] 张玉书[1] 

机构地区：[1]吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区，长春130021

出　　处：《光子学报》2002年第0Z2期253-256,共4页Acta Photonica Sinica

摘　　要：本文采用火焰水解法（FHD）在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜，再经过高温玻璃化处理，获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm，波长1550nm处的折射率为1.4462，芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm，折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。

关 键 词：火焰水解法 Si02-Ge02平面波导材料 玻璃态 折射率 表面特性 测试 二氧化硅 二氧化锗 

分 类 号：TN252[电子电信—物理电子学] TN814