火焰水解法

作品数：17被引量：32H指数：4
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二氧化硅水分散体的制备
《无机盐工业》2011年第4期14-14,共1页
介绍了一种稳定的含有二氧化硅粉体的水分散体的制备方法。即在酸性条件下，采用火焰水解法，将二氧化硅粉体和水溶液置于分散装置中混合制备得到所需产品，
关键词：二氧化硅 制备方法 水分散体 火焰水解法 酸性条件 分散装置 水溶液 粉体 
光纤预制棒市场与技木现状及发展趋势
《光通信》2008年第4期27-30,共4页查健江 黄本华 吴江 
现有主要用于商业化生产低水峰的单模光纤预制棒制造技术包括PCVD、OVD、VAD等，在降低水峰方面，VAD和OVD有其一定的优势。本文首先介绍国内外光纤预制棒的市场与技术现状及发展趋势，然后介绍法尔胜光子公司最新开发出来的AFHD（全火...
关键词：光纤预制棒 全火焰水解法 市场分析 发展趋势 
锗掺杂二氧化硅膜的紫外光致折变被引量：1
《吉林大学学报（工学版）》2005年第5期547-550,共4页张乐天 王健 郑杰 李爱武 钱颖 郑伟 张玉书 
"973"国家重点基础研究发展规划项目(G2000036602).
研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过10 m in的照射后,在1550 nm处的折射率变化大约为3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌。结果表明:随着曝光时间的延长...
关键词：材料失效与保护 锗硅 火焰水解法 KRF激光 折射率 
用TiCl_4制备纳米TiO_2的研究状况被引量：6
《钛工业进展》2005年第2期17-20,共4页杜剑桥 王兰武 
综述了以TiCl4为原料制备纳米TiO2的主要方法:氢氧火焰水解法、气相氧化法、气相燃烧法、液相沉淀法、溶胶-凝胶法、微乳液法和水热法,并对其优缺点做了相应的评论,最后指出了今后研究的方向。
关键词：纳米TIO2 TICL4 研究状况 溶胶-凝胶法 火焰水解法 气相氧化法 气相燃烧法 液相沉淀法 原料制备 微乳液法 水热法 优缺点 
光波导材料与制备
《中国光学》2004年第6期43-43,共1页
TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,...
关键词：火焰水解法 厚二氧化硅 硅基片 扫描电镜照片 光波导材料 制备 射线粉末衍射 微观形貌 高温烧结 比表面积 
在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究被引量：6
《光学学报》2004年第9期1279-1282,共4页郜定山 李建光 王红杰 安俊明 李健 韩培德 胡雄伟 
国家自然科学基金 (6 988970 1);国家重点基础研究发展规划 (G2 0 0 0 0 36 6 0 2 )资助课题。
用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO2 和B2 O3 P2 O5 SiO2 光波导包层材料。并用扫描电镜 (SEM)和X射线粉末衍射 (XRD)方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测。重点对硅基片上沉积厚SiO2 时的龟裂和析晶问题...
关键词：光学材料 光波导材料 二氧化硅 火焰水解 龟裂 析晶 
波导材料SiO_2的火焰水解生长及表征被引量：2
《光电子．激光》2003年第3期271-273,共3页张乐天 谢文法 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书 
国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000036602)
采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20μm的波导下包层材料SiO2膜。利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对其进行了测试分析,得到了空气中1400℃退火后SiO2的均方根粗糙度为0.184nm,原子比为...
关键词：二氧化硅 火焰水解法 表面特性 光学常数 波导材料 
紫外写入法制作阵列波导光栅被引量：1
《半导体光电》2003年第1期37-40,共4页吴远大 张乐天 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家973计划资助项目(TG2000036602)
　提出了一种可能代替传统的利用反应离子刻蚀法(RIE)来制作阵列波导光栅(AWG)的新方法———紫外写入法。对紫外写入法制作AWG的可行性和优缺点进行了分析,设计了AWG的基本参数,并对整个工艺流程进行了设计和优化。最后,报道了本实验...
关键词：紫外写入 阵列波导光栅 火焰水解法 AWG 波分复用 
硅基二氧化硅厚膜材料的快速生长被引量：4
《光子学报》2003年第2期195-198,共4页吴远大 张乐天 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家 973项目资助 (G2 0 0 0 0 36 6 0 2 )
采用火焰水解法在Si片上快速淀积SiO2 厚膜材料 ,材料膜厚达到 4 0 μm以上 ,生长速率达8μm/min .然后将该材料分别在真空中 /空气气氛中高温致密化处理 ,获得了各种形态的二氧化硅厚膜材料 ,包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2 厚膜...
关键词：火焰水解法(FHD) 厚膜 玻璃态 致密化 
AWG用Si基SiO_2波导材料的制备被引量：6
《光电子．激光》2002年第8期868-871,共4页张乐天 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家重点基础研究发展规划资助项目 (G2 0 0 0 0 3 660 2 )
平面光波导在光波分复用技术中起着重要的作用 ,尤其是 Si基 Si O2 波导器件在光通信领域中具有许多优点。因此 ,如何在 Si衬底上制备出性能稳定良好的 Si O2 光波导材料至关重要。本文介绍了几种制备 Si O2
关键词：AWG SiO2 波导材料 波分复用 热氧化法 溶胶-凝胶法 阳极氧化法 化学汽相法 火焰水解法 二氧化硅 列阵波导光栅 
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