邢华

作品数：12被引量：21H指数：3
导出分析报告
供职机构：吉林大学更多>>
发文主题：火焰水解法列阵波导光栅玻璃态波导材料AWG更多>>
发文领域：电子电信理学医药卫生更多>>
发文期刊：《光电子．激光》《功能材料与器件学报》《高技术通讯》《光子学报》更多>>
所获基金：国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
-
在结果中检索

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
共 条 记 录，以下是1-10
全选清除导出
参考文献引证文献引用追踪
视图：
排序：
波导材料SiO_2的火焰水解生长及表征被引量：2
《光电子．激光》2003年第3期271-273,共3页张乐天 谢文法 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书 
国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000036602)
采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20μm的波导下包层材料SiO2膜。利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对其进行了测试分析,得到了空气中1400℃退火后SiO2的均方根粗糙度为0.184nm,原子比为...
关键词：二氧化硅 火焰水解法 表面特性 光学常数 波导材料 
紫外写入法制作阵列波导光栅被引量：1
《半导体光电》2003年第1期37-40,共4页吴远大 张乐天 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家973计划资助项目(TG2000036602)
　提出了一种可能代替传统的利用反应离子刻蚀法(RIE)来制作阵列波导光栅(AWG)的新方法———紫外写入法。对紫外写入法制作AWG的可行性和优缺点进行了分析,设计了AWG的基本参数,并对整个工艺流程进行了设计和优化。最后,报道了本实验...
关键词：紫外写入 阵列波导光栅 火焰水解法 AWG 波分复用 
硅基二氧化硅厚膜材料的快速生长被引量：4
《光子学报》2003年第2期195-198,共4页吴远大 张乐天 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家 973项目资助 (G2 0 0 0 0 36 6 0 2 )
采用火焰水解法在Si片上快速淀积SiO2 厚膜材料 ,材料膜厚达到 4 0 μm以上 ,生长速率达8μm/min .然后将该材料分别在真空中 /空气气氛中高温致密化处理 ,获得了各种形态的二氧化硅厚膜材料 ,包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2 厚膜...
关键词：火焰水解法(FHD) 厚膜 玻璃态 致密化 
AWG用Si基SiO_2波导材料的制备被引量：6
《光电子．激光》2002年第8期868-871,共4页张乐天 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家重点基础研究发展规划资助项目 (G2 0 0 0 0 3 660 2 )
平面光波导在光波分复用技术中起着重要的作用 ,尤其是 Si基 Si O2 波导器件在光通信领域中具有许多优点。因此 ,如何在 Si衬底上制备出性能稳定良好的 Si O2 光波导材料至关重要。本文介绍了几种制备 Si O2
关键词：AWG SiO2 波导材料 波分复用 热氧化法 溶胶-凝胶法 阳极氧化法 化学汽相法 火焰水解法 二氧化硅 列阵波导光栅 
火焰水解淀积Si02膜的退火研究
《光子学报》2002年第0Z2期239-243,共5页张乐天 王昕 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书 
本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜，然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜（AFM）、X射线光电子能谱（XPS），X射线衍射仪（XRD）及可变入射角椭圆偏振仪（VASE）对...
关键词：硅衬底 光波导 SIO2膜 退火处理 下包层材料 淀积 火焰水解 光通信 波分复用系统 二氧化硅膜 
火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
《光子学报》2002年第0Z2期253-256,共4页郑伟 吴远大 邢华 张乐天 李爱武 刘国范 张玉书 
本文采用火焰水解法（FHD）在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜，再经过高温玻璃化处理，获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm，波长1550nm处的折射率为1.4462，芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm，折射率为1.463...
关键词：火焰水解法 Si02-Ge02平面波导材料 玻璃态 折射率 表面特性 测试 二氧化硅 二氧化锗 
波导材料二氧化硅厚膜的快速生长被引量：1
《高技术通讯》2002年第1期43-46,共4页吴远大 邢华 张乐天 李爱武 郑伟 刘国范 张玉书 
国家 973(G2 0 0 0 36 6 0 2 )资助项目
采用火焰水解法 (FHD)在Si片 (4 .5cm )上快速淀积疏松多孔的SiO2 厚膜材料 ,淀积速率达 8μm/min。然后将该材料分别在真空 /空气气氛中高温致密化处理 ,获得了各种形态的二氧化硅厚膜。其中包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2 厚...
关键词：波导材料 二氧化硅厚膜 火焰水解法 致密化 FHD 玻璃态SiO2 薄膜生长 
二氧化硅厚膜材料的快速生长及其致密化处理被引量：3
《吉林大学自然科学学报》2001年第4期53-56,共4页吴远大 邢华 卓仲畅 余永森 郑伟 刘国范 张玉书 
国家 973项目资助 (批准号 :G2 0 0 0 36 6 0 2 )
采用火焰水解法 ( FHD)在 Si片上快速淀积出 Si O2 厚膜材料 ,材料膜厚 40 μm以上 ,生长速率 8μm/ min.将该材料分别在真空中和空气中高温致密化处理 ,获得各种形态的二氧化硅厚膜材料 .利用 XRD,SEM,电子显微镜等仪器对 Si O2
关键词：火焰水解法 高温致密化 玻璃态 二氧化硅厚膜材料 半导体 
列阵波导光栅复用器及其应用
《吉林大学自然科学学报》2001年第3期51-54,共4页邢华 吴远大 于永森 侯韶华 刘国范 张玉书 
国家重点基础研究发展规划基金 (批准号 :G2 0 0 0 0 3660 2 )
介绍用于波分复用的一种新型的无源器件列阵波导光栅 ,分析其工作原理 ,概述制备方法、用途和目前的发展状况 .
关键词：列阵波导光栅 波分复用 集成光学 
火焰水解法制作SiO_2平面波导材料被引量：4
《半导体光电》2001年第2期117-120,共4页吴远大 邢华 张乐天 韦占雄 郑伟 刘国范 张玉书 
国家 8 6 3计划资助项目!(86 3- 30 7- 15 - 3)
采用火焰水解法在Si基上淀积SiO2 /GeO2 :SiO2 预制材料 ,然后在真空中 /空气气氛中高温处理 ( 1380℃ )后 ,制得玻璃化的SiO2 /GeO2 :SiO2 膜材料。该材料膜厚适中 ( 10～ 30μm)、平整度好、光滑透明和适合制作单模、多模列阵平面波...
关键词：火焰水解法 光波导 二氧化硅 平面波导材料 
全选清除导出
共2页<12>
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部