光刻胶之关键技术  

作　　者：潘家立 陶玉柱 

出　　处：《集成电路应用》2003年第6期75-76,共2页Application of IC

摘　　要：光刻胶长期以来即被广泛地运用在各类产业中。以电子工业及IC工业为例,由于光刻胶具备感光成像之特性,可将微细线路刻画于各种基板上,对于计算机电路板、液晶显示面板及集成电路器件等产品的微影光刻加工程序,是不可或缺的关键材料。近年来,在电子器件愈做愈小的趋势下,光刻胶的性能。

关 键 词：光刻胶 配方 超洁净 超微量分析 应用检测 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]