部分相干分数域滤波改善光刻分辨率新方法  

New Filtering Approach on Partial Coherent Imaging System for Improving Photolithography Resolution

作　　者：杜惊雷[1] 张怡霄[1] 杨静[1] 刘世杰[1] 肖啸[1] 郭永康[1] 杜春雷[2] 

机构地区：[1]四川大学物理系,成都610064 [2]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209

出　　处：《光子学报》2003年第7期892-895,共4页Acta Photonica Sinica

基　　金：国家自然科学基金 (6 990 70 0 3);微细加工光学技术国家重点实验室的资助

摘　　要：基于部分相干成像和分数傅里叶变换 ,提出在投影光刻系统中 ,利用分数域滤波改善光刻图形质量的新方法 理论和模拟分析表明 :在曝光成像系统中的适当位置加入分数域滤波器 ,能增强滤波操作的灵活性和效果 ,可更有效地改善光刻图形质量 。Wavefront engineering technology is an effective method for enhancing photolithography resolution. In this paper, based on the theory of partial coherent imaging and fractional Fourier transform, a new idea using a fractional Fourier transform filter on projection system for improving photolithography pattern quality is proposed. Analysis on theory and simulation has shown that the new method is effective and flexible for improving photolithography pattern quality.

关 键 词：分数傅里叶域滤波 光学光刻 部分相干成像 瞳孔滤波 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学]