国内外真空镀膜技术及设备的基本现状及国内真空镀膜设备发展的几点建议  

作　　者：靳毅 

机构地区：[1]国投南光有限公司四川成都610062

出　　处：《四川真空》2003年第1期1-8,共8页

摘　　要：本文着重在光学应用领域、半导体器件、大规模集成电路制造的应用领域、电容器、包装和装饰金属膜材应用领域，介绍国内外真空镀膜技术及设备的现状，及国内真空镀膜设备厂家的优势与差距和发展方向。

关 键 词：真空镀膜技术 真空镀膜设备 半导体器件 集成电路 电容器 包装 装饰金属膜材 

分 类 号：TN305.8[电子电信—物理电子学]