IH工艺的发展及应用  

Development and application of IH technology

作　　者：孔祥东[1] 张玉林[1] 尹明[1] 

机构地区：[1]山东大学控制学院电子束研究所,山东济南250061

出　　处：《微纳电子技术》2003年第11期34-39,共6页Micronanoelectronic Technology

基　　金：2003年山东省科学计划项目

摘　　要：介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。A series of IH technologies are introduced.To meet the development of MEMS ,a va-riety of microstructures with high-aspect ratio and complex curves,such as moving parts,combi-nation of electric and polymer parts and total-polymer functional micro-devices,are made easily with IH technologies.Finally,some disadvantages about these technologies.are put forward.

关 键 词：IH工艺 立体光刻 抗蚀剂 聚合物结构 微机电系统 集成固化聚合物 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]