先进IC制造技术在超精密加工中的应用与发展  

The Application and Development of Advanced IC Manufacturing Technology in Ultra-precision Machining

作　　者：李辉[1] 张建民[1] 

机构地区：[1]北京理工大学机械与车辆工程学院,100081

出　　处：《新技术新工艺》2003年第11期4-7,共4页New Technology & New Process

摘　　要：介绍了集成电路(IC)在超精密加工技术中的发展。分析IC生产基本工艺流程与工艺技术,对影响IC发展的最新的3项关键生产技术进行研究;通过对国内外集成电路(IC)工艺装备的发展趋势进行分析,提出加工特征尺寸0.1～0.07μm的掩膜制造、光刻、刻蚀等关键装备以及芯片材料技术是IC技术创新和IC制造工艺设备的发展趋势。

关 键 词：集成电路 超精密加工 微电子加工 光刻 刻蚀 掩膜制造 技术创新 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]