纳米间隙电极的加工研究进展  

Development of Research on Fabrication of Nanometer-spaced Electrodes

作　　者：顾宁[1] 黄岚[1] 徐丽娜[1] 王孟[1] 廖建辉[1] 

机构地区：[1]东南大学纳米科学与技术研究中心分子与生物分子电子学教育部重点实验室,南京210096

出　　处：《微细加工技术》2003年第4期1-8,26,共9页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目(69890220;60171005);江苏省自然科学基金资助项目(BK99006);教育部高等学校青年教师教学科研奖励基金资助项目(TRAPOYT;2000)

摘　　要：分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙电极的研究结果,对今后的相关研究问题进行了讨论。采用选择性化学沉积技术制备镍双电极的间隙已可小于100nm。该技术对于制备纳米间隙电极具有一定的优势。The main developments of the research in fabrication of nanometer-spaced electrodes abroad and at home are introduced.Especially,a new technology to produce the electrodes by combining the selective chemical deposition with common lithography is described and the following related research subjects are discussed.The Ni double-electrodes with the separation of less than 100 nm have been fabricated by that technology.The technology has some advantages for fabricating the nanometer-spaced electrodes.

关 键 词：纳米间隙电极 光刻 选择性化学沉积 镍双电极 电子束刻蚀 

分 类 号：TN103[电子电信—物理电子学] TN305