三氯氢硅歧化的研究  

作　　者：莫金玑[1] 管丽民[1] 汪光裕[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海冶金研究所

出　　处：《稀有金属》1992年第4期315-316,共2页Chinese Journal of Rare Metals

摘　　要：目前,SiH_2Cl_2作为优质源材料在外延工艺中的应用日益广泛,可用于沉积多晶硅、无定形硅和氮化硅等,是研制集成电路的一种重要材料。很多研究工作者论述了以含氮原子功能团的非可溶性固体催化剂进行SiHCl_3岐化制取SiH_2Cl_2工艺。本文报导实验室条件下进行SiHCl_3岐化研究的若干结果。

关 键 词：三氯氢硅 歧化反应 

分 类 号：TN304.12[电子电信—物理电子学]